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集成电路布图设计

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服务介绍

一、布图设计的简介集成电路指的是由半导体集成的电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以......

一、布图设计的简介
 
集成电路指的是由半导体集成的电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。通俗地说,它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。
 
二、提出申请的时间
 
布图设计创作完成之后,就可以向国家知识产权局提出登记申请。但是,布图设计最迟应当自其在世界任何地方首次商业利用之日起两年内,向国家知识产权局提出登记申请。未在该期限内向国家知识产权局提出登记申请的,国家知识产权局不再予以登记。
 
三、提出申请时应提交的文件
 
(一) 必须提交的文件:
 
① 集成电路布图设计登记申请表一份;
 
② 图样一份;
 
③ 图样的目录一份。
 
(二) 可能需要提交的文件:
 
① 布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交 4件样品。
 
② 申请人委托代理机构的,还应提交集成电路布图设计登记代理委托书。
 
(三) 此外,申请人还可以提交:
 
① 包含该布图设计图样电子件的光盘。
 
② 布图设计的简要说明。
 
申请文件的形式要求
 
(1)图样:包括该布图设计的总图和分层图,以适合 A4 纸的大小打印在 A4 纸上;每页纸打印一幅图;当图纸有多张时,应顺序编号。
 
(2)图样的目录:应写明每页图纸的图层名称。
 
(3)样品:所提交的 4 件集成电路样品应当置于专用器具中,器具表面应当贴上标签,写明申请人的姓名和集成电路布图设计名称。
 
(4)简要说明:说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。
 
(5)光盘:光盘内存有该布图设计图样的电子文件。光盘表面应当写明申请人的姓名和集成电路名称。
 
 
四、保护期限
 
集成电路布图设计专有权保护期为10年,起算日是布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日,以较前日期为准。
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